Vui lòng nhập thông tin chi tiết sản phẩm (như màu sắc, kích thước, chất liệu, v.v.) và các yêu cầu cụ thể khác để nhận báo giá chính xác.
để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.
1

Máy làm sạch chân không plasma 25L dùng trong phòng thí nghiệm, tích hợp màn hình cảm ứng PLC 7 inch.

HY-EL25H là hệ thống xử lý plasma trong phòng thí nghiệm được sử dụng rộng rãi bởi các viện nghiên cứu, bộ phận R&D của các công ty và các dây chuyền sản xuất thử nghiệm quy mô nhỏ. Hệ thống này sử dụng công nghệ phóng điện CCP (plasma ghép nối điện dung). Hệ thống hoàn chỉnh bao gồm một buồng chân không hình vuông bằng thép không gỉ, máy phát plasma, bơm chân không và các cổng dẫn khí vào & ra.

Thiết bị này giúp tăng cường hiệu quả độ bám dính bề mặt chất nền và cải thiện tính ưa nước của bề mặt, với nhiều ứng dụng rộng rãi trong liên kết vật liệu, phủ lớp, lắng đọng màng chất nền và liên kết tấm bán dẫn. Thiết bị này cung cấp khả năng xử lý plasma ổn định, có thể lặp lại cho các dự án nghiên cứu chất bán dẫn, vi lưu và vật liệu mới.

  • Thương hiệu :

    HYRNUS
  • Mã số sản phẩm :

    HY-EL25H
  • Số lượng đặt hàng tối thiểu (MOQ) :

    1 Set
  • Bảo hành :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Sự chi trả :

    T/T
  • Thời gian giao hàng :

    7-35 Days
  • Nguồn gốc sản phẩm :

    China
  • Máy làm sạch chân không plasma 25L dùng trong phòng thí nghiệm, tích hợp màn hình cảm ứng PLC 7 inch.

    Giới thiệu sản phẩm

    NE-PE25H Máy làm sạch bằng plasma chân không Máy này lý tưởng cho các phòng thí nghiệm nghiên cứu đại học, trung tâm R&D doanh nghiệp và sản xuất theo lô nhỏ. Được trang bị buồng chân không hình vuông bằng thép không gỉ được chế tạo bằng phương pháp hàn cấp quân sự, điện cực hai lớp tích hợp, hai kênh dẫn khí độc lập và cấu trúc mở phía trước với hệ thống tuần hoàn khí thải phía sau, máy giúp đảm bảo lượng khí hút vào đồng đều và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời. Màn hình cảm ứng thân thiện với người dùng hỗ trợ giám sát thông số theo thời gian thực, lưu trữ nhiều công thức quy trình với khả năng truy xuất nguồn gốc dữ liệu đầy đủ và loại bỏ nhu cầu sử dụng bộ trộn khí bổ sung để thử nghiệm tỷ lệ khí khác nhau.

    Hệ thống plasma này giúp tăng cường đáng kể độ bám dính và tính ưa nước của chất nền, mang lại khả năng xử lý ổn định và lặp lại cho các quy trình cốt lõi bao gồm làm sạch chất gây ô nhiễm hữu cơ, sửa đổi bề mặt ưa nước/kỵ nước, khắc vi mô chính xác, liên kết chip vi lưu PDMS và loại bỏ tro quang trở. Nó được ứng dụng rộng rãi trong liên kết vật liệu, phủ lớp, lắng đọng màng chất nền và tất cả các loại dự án nghiên cứu vật liệu bán dẫn mới.

    Ứng dụng sản phẩm

    1. Làm sạch: Loại bỏ cặn bẩn hữu cơ, oxit, muối kim loại và các chất gây ô nhiễm dạng hạt nano.

    2. Kích hoạt: Điều chỉnh các đặc tính ưa nước/kỵ nước, tăng năng lượng bề mặt, ghép các nhóm chức năng và cải thiện khả năng tương thích sinh học.

    3. Khắc axit: Tạo hình bề mặt, khắc vi mô và điều chỉnh có kiểm soát hình thái và độ nhám bề mặt.

    4. Liên kết: Liên kết kín khí cho PDMS và các chip vi lưu khác.

    5. Loại bỏ lớp cản quang: Quá trình nung lớp cản quang và loại bỏ lớp phủ chống phản xạ phía dưới.

     

    25L Vacuum Plasma Cleaning

     

    Tính năng sản phẩm

    1. Buồng chân không bằng thép không gỉ được gia công bằng phương pháp hàn tiêu chuẩn quân sự, có hiệu suất làm kín vượt trội và khả năng chống ăn mòn tuyệt vời.

    2. Tích hợp hai lớp điện cực và khay xử lý nhiều lớp giúp tối ưu hóa đáng kể việc sử dụng không gian.

    3. Giao diện màn hình cảm ứng thân thiện với người dùng, hiển thị các thông số quy trình theo thời gian thực.

    4. Hỗ trợ lưu trữ nhiều công thức quy trình để gọi lại chỉ bằng một cú nhấp chuột, với dữ liệu vận hành có thể truy xuất đầy đủ.

    5. Được trang bị hai kênh dẫn khí độc lập; không cần thêm bộ trộn khí, thuận tiện cho việc thử nghiệm các công thức tỷ lệ khí khác nhau.

    6. Thiết kế cửa mở phía trước kết hợp với ống xả phía sau tạo ra sự tuần hoàn khí động bên trong. Lượng khí hút vào đồng đều mang lại hiệu quả làm sạch nhất quán.

    Bản vẽ phác thảo máy và sơ đồ buồng chân không

     

    Vacuum Plasma Chamber

     

    Thông số kỹ thuật

     
    KHÔNG.LoạiThông số kỹ thuậtTham số
    1Máy phát plasmaQuyền lựcCông suất 0–1000W, có thể điều chỉnh liên tục.
    Tính thường xuyên40 KHz
    2Buồng phản ứng chân khôngVật liệu buồngThép không gỉ 316 nhập khẩu với bề mặt bóng loáng đạt tiêu chuẩn quân sự.
    Thể tích buồng380(Rộng)×390(Sâu)×170(Cao) mm; 25L
    Không gian xử lý hiệu quả333(Rộng) × 320(Sâu) mm
    3Điện cực phóng điệnĐiện cực3 điện cực hợp kim nhôm dẫn điện cao đặc biệt
    Các lớp xử lý2 lớp
    Chế độ xảPhóng điện phản ứng plasma ghép điện dung CCP
    Khoảng cách giữa điện cực dương và điện cực âm50 mm
    Khoảng cách khay30 mm
    4Kiểm soát đường dẫn khíBộ điều khiển lưu lượng khối300 SCCM
    Thiết kế mạch khíThiết kế hút gió đồng đều hai bên giúp đảm bảo kết quả làm sạch và khắc axit nhất quán.
    Kênh khí2 đường dẫn khí, tương thích với O, Ar, N, H, vân vân.
    (Vui lòng thông báo trước nếu cần sử dụng khí ăn mòn)
    5Đo chân khôngHệ thống đo chân khôngPhạm vi đo: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Pa
    Độ chính xác đo: 0,1 Pa
    6Hệ thống bơmBơm chân không16 m³/h
    Đường ống chân khôngỐng thép không gỉ + van khí nén
    7Hệ thống điều khiểnChế độ điều khiểnPLC
    Màn hình cảm ứngMàn hình cảm ứng 7 inch
    Chương trình phần mềmHệ thống điều khiển plasma tự phát triển và được cấp bằng sáng chế
    8Điều kiện trang webNguồn điện220V, 50/60Hz, 13A
    Đầu nối ống dẫn khíΦ6 mm
    Độ tinh khiết khí cần thiết99,99%
    Áp suất khí đầu vào0,3–0,6 MPa
    Cổng xảMặt bích KF25
    9Thông số kỹ thuật tổng thể của máyKích thước tổng thể650mm (Dài) × 649mm (Rộng) × 666mm (Cao)
    Trọng lượng tịnh80kg
    Tổng mức tiêu thụ điện năng3 KW

     

    Môi trường vận hành (Các hạng mục do khách hàng chuẩn bị)

     

    KHÔNG.MụcYêu cầu
    1Nguồn cung cấp điện và tình trạng lưới điệnĐiện áp đầu vào: 220V, 50/60Hz; sai số lưới điện cho phép ±10%. Dây nối đất bảo vệ phải tuân thủ các tiêu chuẩn quốc tế. Không được có nhiễu điện từ mạnh gần khu vực lắp đặt thiết bị.
    2Điều kiện môi trường lắp đặtNhiệt độ môi trường: 0–40°C; Độ ẩm tương đối: 15%–60%.
    3Chuẩn bị nguồn khíBình khí oxy, argon, nitơ, hydro, v.v. (phải được trang bị van giảm áp). Áp suất khí đầu vào > 0,3 MPa; Đường kính khớp nối khí: Φ6 mm.
    4Ống xảKết nối với cổng xả của bơm chân không (bắt buộc đối với các ứng dụng phòng sạch).
     

    Chi tiết sản phẩm

      •  

    Vacuum plasma surface treatment machine
    25L Vacuum Plasma Cleaning MachineCCP Capacitively Coupled Plasma System
     
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.

để lại lời nhắn

để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.
LIÊN HỆ VỚI CHÚNG TÔI :allen@hyrnus.com