HY-EL25H là hệ thống xử lý plasma trong phòng thí nghiệm được sử dụng rộng rãi bởi các viện nghiên cứu, bộ phận R&D của các công ty và các dây chuyền sản xuất thử nghiệm quy mô nhỏ. Hệ thống này sử dụng công nghệ phóng điện CCP (plasma ghép nối điện dung). Hệ thống hoàn chỉnh bao gồm một buồng chân không hình vuông bằng thép không gỉ, máy phát plasma, bơm chân không và các cổng dẫn khí vào & ra.Thiết bị này giúp tăng cường hiệu quả độ bám dính bề mặt chất nền và cải thiện tính ưa nước của bề mặt, với nhiều ứng dụng rộng rãi trong liên kết vật liệu, phủ lớp, lắng đọng màng chất nền và liên kết tấm bán dẫn. Thiết bị này cung cấp khả năng xử lý plasma ổn định, có thể lặp lại cho các dự án nghiên cứu chất bán dẫn, vi lưu và vật liệu mới.
ĐỌC THÊM
để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.
