Vui lòng nhập thông tin chi tiết sản phẩm (như màu sắc, kích thước, chất liệu, v.v.) và các yêu cầu cụ thể khác để nhận báo giá chính xác.
để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.
1

Máy làm sạch plasma chân không ICP để bàn với buồng thạch anh 2,5L dùng trong nghiên cứu phòng thí nghiệm.

Thiết bị xử lý ICP để bàn HY-EB03H 2.5L là thiết bị xử lý bề mặt plasma nhỏ gọn dành cho phòng thí nghiệm, với công suất RF 13.56MHz và hai kênh khí. Nó tạo ra plasma ICP mật độ cao để làm sạch, kích hoạt, khắc và liên kết vật liệu, và được sử dụng rộng rãi trong vi dịch PDMS, xử lý tro chất cản quang và nghiên cứu trong phòng thí nghiệm bán dẫn.

 

  • Thương hiệu :

    HYRNUS
  • Mã số sản phẩm :

    HY-EB03H
  • Số lượng đặt hàng tối thiểu (MOQ) :

    1 Set
  • Bảo hành :

    One-Year Warranty and Lifetime Maintenance
  • Sự chi trả :

    T/T
  • Thời gian giao hàng :

    7-35 Days
  • Nguồn gốc sản phẩm :

    China
  • Máy làm sạch plasma chân không ICP để bàn với buồng thạch anh 2,5L dùng trong nghiên cứu phòng thí nghiệm.

    Giới thiệu sản phẩm

    HY-EB03H Máy làm sạch plasma chân không ICP để bàn với buồng thạch anh 2,5L Đây là hệ thống xử lý bề mặt bằng plasma nhỏ gọn, được thiết kế riêng cho các phòng thí nghiệm nghiên cứu đại học, trung tâm R&D doanh nghiệp và sản xuất thử nghiệm quy mô nhỏ. Được trang bị buồng xử lý bằng thủy tinh thạch anh hình trụ, hệ thống hoàn chỉnh bao gồm máy phát plasma RF, bơm chân không và hai cổng dẫn khí vào & ra độc lập. Áp dụng công nghệ plasma ghép nối cảm ứng ICP, hệ thống có thể tạo ra plasma mật độ cao đồng nhất một cách ổn định.

    Thiết bị này giúp cải thiện hiệu quả độ bám dính bề mặt chất nền và tối ưu hóa tính ưa nước của bề mặt, được ứng dụng rộng rãi trong việc liên kết chip vi lỏng PDMS, phủ vật liệu, lắng đọng màng mỏng, loại bỏ chất cản quang và toàn bộ các quy trình sửa đổi bề mặt vật liệu.

    Ứng dụng sản phẩm

    1. Làm sạch: Loại bỏ các chất hữu cơ, oxit, muối kim loại, chất gây ô nhiễm dạng hạt nano, v.v.

    2. Kích hoạt: Biến đổi tính ưa nước/kỵ nước, cải thiện năng lượng bề mặt, đưa nhóm chức vào, tối ưu hóa khả năng tương thích sinh học, v.v.

    3. Khắc axit: Tạo hình bề mặt, khắc vi mô, điều chỉnh hình thái và độ nhám bề mặt, v.v.

    4. Liên kết: Liên kết PDMS và các thiết bị vi lưu khác

    5. Loại bỏ lớp cản quang: Quá trình đốt cháy lớp cản quang và loại bỏ lớp đáy.

     

    Tabletop ICP Vacuum Plasma Cleaning

     

    Tính năng sản phẩm

    1. Buồng chân không được làm bằng thủy tinh thạch anh, dễ vệ sinh và không bị nhiễm bẩn khi thử nghiệm mẫu.

    2. Được trang bị bộ tạo plasma RF bán dẫn 13,56MHz với khả năng tự động điều chỉnh trở kháng, mang lại độ ổn định và khả năng lặp lại tuyệt vời.

    3. Bảng điều khiển vận hành được thiết kế nghiêng 30° theo hướng công thái học, giúp thao tác dễ dàng và giao diện thân thiện với người dùng.

    4. Hai kênh dẫn khí độc lập được trang bị bộ điều khiển lưu lượng cho phép thiết lập và điều chỉnh chính xác tốc độ dòng khí, tạo điều kiện thuận lợi cho việc nghiên cứu về ảnh hưởng của tỷ lệ khí khác nhau đến kết quả điều trị.

    5. Công nghệ tạo plasma ghép nối cảm ứng ICP tạo ra plasma mật độ cao.

    Bản vẽ phác thảo máy và sơ đồ buồng chân không

     

    Plasma Activation and Photoresist Ashing

     

    Thông số kỹ thuật

     
    KHÔNG.MụcThông số kỹ thuật.Tham số
    1Máy phát plasmaCông suất đầu ra trạng thái rắnCông suất điều chỉnh liên tục từ 0–15W, đầu ra sóng sin chuẩn, độ ổn định ≤±0.5%; tích hợp bảo vệ quá áp, quá dòng, quá nhiệt và bảo vệ công suất phản xạ.
    Tần số hoạt độngNguồn điện RF bán dẫn 13,56 MHz
    Phối hợp trở khángTự động ghép nối tốc độ cao trong vòng 0,1 giây, hỗ trợ giao tiếp mạng.
    2Buồng phản ứng chân khôngVật liệu buồngkính thạch anh chịu nhiệt
    Thể tích buồng2,5 lít
    Khay mẫuKhay kính song song
    Kích thước buồng hình trụΦ105×300 (D) mm
    3Kiểm soát đường dẫn khíBộ điều khiển lưu lượng khối300 SCCM
    Kênh khí2 đường dẫn khí độc lập, tương thích với O, Ar, N, H, vân vân.
    Vui lòng thông báo trước nếu cần sử dụng khí ăn mòn.
    4Đo chân khôngHệ thống đo chân khôngPhạm vi đo: 5×10² ~ 1,0×10⁵ Pa
    Độ chính xác đo: 1 Pa
    5Hệ thống bơmBơm chân không8 m³/H
    6Hệ thống điều khiểnMàn hình cảm ứng7 inch
    Các mục giám sát thời gian thựcCông suất đầu ra, mức độ chân không, lưu lượng khí, thời gian xử lý, v.v.
    Chế độ điều khiểnĐiều khiển PLC
    Phần mềm điều khiểnHệ thống điều khiển plasma tự phát triển, được cấp bằng sáng chế, với 3 cấp độ quyền truy cập; chế độ tự động và thủ công, cài đặt thông số công thức, lưu và gọi lại, truy vấn lịch sử cảnh báo, giám sát tín hiệu IO.
    Chức năng bảo vệ báo độngCảnh báo bảo vệ chân không, cảnh báo bảo vệ phóng điện phát sáng, cảnh báo bảo vệ nguồn điện
    Chức năng cân bằng áp suấtHỗ trợ đầu vào khí xử lý để cân bằng áp suất, thời gian cân bằng có thể điều chỉnh.
    7Điều kiện vận hành trang webNguồn điện220V±10% 50/60Hz 9A
    Phụ kiện ống dẫn khíCổng đường kính 6mm
    Độ tinh khiết khí cần thiết99,99%
    Áp suất khí đầu vào0,4–0,6 MPa
    Cổng xảGiao diện mặt bích KF25
    8Thông số tổng thể của máyTổng công suất máy≤ 2 kW
    Kích thước tổng thể bên ngoài551,5mm (Dài) × 480mm (Rộng) × 546,5mm (Cao)

     

    Môi trường vận hành (Các hạng mục do khách hàng chuẩn bị)

     

    KHÔNG.MụcYêu cầu
    1Nguồn điện & Công suất định mứcĐiện áp đầu vào: 220V, 50/60Hz, sai số điện lưới cho phép ±10%; dây nối đất phải đáp ứng các tiêu chuẩn quốc tế. Không có nhiễu điện từ mạnh xung quanh khu vực lắp đặt thiết bị.
    2Môi trường cài đặtNhiệt độ môi trường: 0–40°C; Độ ẩm tương đối: 15%–60%
    3Chuẩn bị nguồn khíBình khí đốt cho O, Ar, N, Hv.v. (phải được trang bị van giảm áp). Áp suất khí đầu vào 0,3 MPa; đường kính cổng ống dẫn khí: Φ6mm
    4Ống xảKết nối với cổng xả của bơm chân không (bắt buộc đối với phòng sạch).
     

    Chi tiết sản phẩm

      •  

     
    13.56MHz ICP RF Plasma Treatment Equipment
    Tabletop Vacuum Plasma Cleaning Machine
    Tabletop Vacuum Plasma Cleaner for Lab PDMS Bonding
     
     
     
     
     
     
     
     

     

     

để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.

để lại lời nhắn

để lại lời nhắn
Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi và muốn biết thêm chi tiết, vui lòng để lại lời nhắn tại đây, chúng tôi sẽ trả lời bạn sớm nhất có thể.
LIÊN HỆ VỚI CHÚNG TÔI :allen@hyrnus.com