Xử lý bề mặt bằng plasma

Thiết bị xử lý ICP để bàn HY-EB03H 2.5L là thiết bị xử lý bề mặt plasma nhỏ gọn dành cho phòng thí nghiệm, với công suất RF 13.56MHz và hai kênh khí. Nó tạo ra plasma ICP mật độ cao để làm sạch, kích hoạt, khắc và liên kết vật liệu, và được sử dụng rộng rãi trong vi dịch PDMS, xử lý tro chất cản quang và nghiên cứu trong phòng thí nghiệm bán dẫn. 

HY-DC1000 được trang bị súng bắn tia plasma xoay với phạm vi phủ rộng và các vòi phun có thể thay thế từ 20 đến 80mm, được thiết kế riêng cho các chi tiết phẳng lớn bao gồm PCB kích thước đầy đủ, điện cực pin năng lượng mới, các bộ phận nhựa ô tô và tấm kính màn hình. Máy hỗ trợ công suất điều chỉnh rộng từ 0–1000W để tạo ra lớp phủ plasma đồng đều trên các bề mặt lớn, loại bỏ hiệu quả các chất gây ô nhiễm hữu cơ và khắc phục các vấn đề về khoảng trống in ấn và bong tróc lớp phủ trong dây chuyền lắp ráp hàng loạt.

Máy HY-AC500 sử dụng súng phun plasma xoay và chế độ điều khiển kép thủ công & I/O, giúp làm sạch, kích hoạt và khắc vi mô đồng đều cho PCB, FPC, BGA và chip bán dẫn. Máy có phần cứng đạt chuẩn quân sự, giám sát kỹ thuật số thời gian thực và bảo vệ an toàn đa lớp. Máy plasma analog để bàn 1000W này được sử dụng rộng rãi để xử lý sơ bộ trong ngành đóng gói bán dẫn, điện tử 3C, màn hình, điện tử ô tô và năng lượng mới.

HY-AC1000H sử dụng công nghệ plasma trung tính nhiệt độ thấp không cần chân không, được trang bị ray dẫn hướng có thể tùy chỉnh và súng bắn xoay kép. Với công suất điều chỉnh từ 0–1000W và chiều rộng xử lý từ 20–80mm, máy có thể làm sạch chip một cách an toàn mà không gây hư hại do nhiệt.Phương pháp làm sạch khô kết hợp vật lý và hóa học giúp tăng cường độ bám dính cho việc gắn chip, hàn dây và đúc khuôn, giảm thiểu hiện tượng tách lớp và các lỗ hổng. Hỗ trợ điều khiển thủ công và I/O với chức năng giám sát an toàn toàn diện, thiết bị kết nối với các dây chuyền tự động để xử lý liên tục các chất nền, khung dẫn và các tấm FPC lớn, mang lại khả năng sản xuất ổn định trong thời gian dài với tải trọng tối đa và thời gian phản hồi dưới 0,1 giây.

Máy HY-AS1200 được trang bị vòi phun xoay bằng động cơ để tạo ra bề mặt plasma đồng đều. Với chiều rộng xử lý từ 20–80 mm và công suất điều chỉnh từ 0 đến 1200 W, máy hoàn toàn phù hợp cho việc xử lý sơ bộ hàng loạt các khung dẫn và chất nền diện tích lớn. Plasma trung tính ở nhiệt độ phòng sẽ không làm hỏng chip, loại bỏ khô các cặn hữu cơ và oxit bề mặt dưới áp suất khí quyển để tăng cường độ bám dính cho việc gắn chip, hàn dây và đúc khuôn, đồng thời giảm thiểu các khuyết tật bong tróc và lỗ rỗng.Được trang bị hệ thống bảo vệ an toàn nhiều lớp và hoàn toàn tương thích với các dây chuyền sản xuất tự động, thiết bị này được sử dụng rộng rãi trong các quy trình đóng gói và kiểm tra IC, FPC và chip ô tô.

Máy HY-AD800 xử lý an toàn các chip, mạch in và linh kiện nhựa mỏng manh mà không gây biến dạng nhiệt. Được trang bị công suất điều chỉnh từ 0–800W, chế độ vận hành kép IO/thủ công và hệ thống bảo vệ an toàn toàn diện, máy có thể dễ dàng tích hợp vào các dây chuyền sản xuất tự động để làm sạch bề mặt, kích hoạt và cải thiện liên kết, lý tưởng cho các ngành công nghiệp đóng gói bán dẫn, điện tử 3C, ô tô, năng lượng mới và sản xuất đèn LED.